信越化學應對半導體抗蝕劑市場的擴展和發展
信越化學工業株式會社將在日本和臺灣的光阻劑生產基地投資300億日元。繼續進行資本投資，以滿足對光致抗蝕劑不斷增長的需求，這對于制造先進的半導體和技術發展是必不可少的。
半導體制造工藝的復雜性將在未來繼續。增強及時響應客戶需求的能力，包括技術和供應方面。為此，子公司信越電子材料有限公司（臺灣云林縣，以下簡稱“信越電子材料（臺灣）”）和信越化學直江工廠（新瀉縣上越市，以下簡稱“直越工廠”）將提高產能。臺灣信越電子材料有限公司于2019年夏季完成了第一階段的建設，但已經在建造新的工廠大樓，這次將進一步擴大其生產設施。力爭在2021年2月之前完成建設。同時，在Naoetsu工廠，將建造一座新建筑以提高產能。計劃在2022年2月之前完成建設。
信越化學已經開發并批量生產了可提高電路圖案尺寸精度的高靈敏度ArF光刻膠和多層光刻膠材料。我們一直為客戶提供最先進的光刻膠相關產品。2019年7月，光刻膠材料在臺灣開始生產，這也是需求量之一。實現了多個生產基地并提高了供應穩定性。
信越化學將隨著半導體器件市場的擴大，晶體管數量的增加以及用于節能的器件工藝的發展，穩步抓住對半導體相關材料的需求，并將進一步鞏固其業務基礎。
